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離子束刻蝕機(jī) 型號(hào)：IBE-200
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離子束刻蝕機(jī) 型號(hào)：IBE-200 可加工材料：各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、陶瓷、紅外和超導(dǎo)，磁學(xué)，LED等前沿領(lǐng)域。 核心參數(shù) 離子源類型：考夫曼離子源 有效束經(jīng)：Фb≥150mm 離子能量：0～1000 eV 離子束流：0～200mA 樣品臺(tái)：水冷/氦冷，±90°傾斜，面內(nèi)旋轉(zhuǎn)。 高真空系統(tǒng)：前級(jí)泵＋分子泵 工藝氣路：1-2路 刻蝕均勻性：≤±3% 全自動(dòng)＋半自動(dòng)控制；支持單工藝和多工藝組、操作記錄、運(yùn)行記錄、故障診斷、報(bào)警等功能。 可選配：0ES終點(diǎn)檢測(cè) |
