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IBSD-1515雙離子束濺射鍍膜沉積系統
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IBSD-1515雙離子束濺射鍍膜沉積系統 產品摘要：該系統為通用雙離子束薄膜沉積系統，可用于濺射沉積各種金屬、合金、Ⅲ-Ⅴ族化合物及半導體材料的單層薄膜、多層薄膜，也可將單質材料通過反應合成氧化物、氮化物等薄膜，薄膜材料致密性好，損傷低，被廣泛應用于光學薄膜，壓電傳感器，紅外等前沿領域。 核心參數 主源—聚焦束濺射離子源：離子能量：0～1000 eV；離子束流：0～150mA； 輔源：離子能量：0～1000 eV；離子束流：0～130 mA。 有效束經：Фb≥150mm 襯底臺；可裝6英寸及以下樣品 靶臺；裝靶數：3靶（靶尺寸Ф150mm×δ3~5mm）自動換靶 高真空系統；前級泵＋分子泵 工藝氣路：1-3路 鍍膜均勻性；≤±5% 全自動＋半自動控制；支持單工藝和多工藝組、操作記錄、運行記錄、故障診斷、報警等功能。 可選配：膜厚儀 |
