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離子束刻蝕機 型號：RFIBE-30
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離子束刻蝕機 型號：RFIBE-30 可加工材料：各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、陶瓷、紅外和超導，磁學，LED，光柵等前沿領域。 核心參數 離子源類型：射頻離子源 中和類型：射頻中和器 有效束經：Фb≥200mm 離子能量：0～1000eV 離子束流：0～800mA 樣品臺：水冷/氦冷，±90°傾斜，面內旋轉。 高真空系統：前級泵＋分子泵 工藝氣路：1-6路 刻蝕均勻性；≤±3% Load-lock：可選配進樣室，Cassette 可選配：0ES終點檢測 |
