刻鍍一體機
刻蝕機
鍍膜機
設備名稱:刻鍍一體機
可加工材料:各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、陶瓷、紅外和超導,磁學,LED等前沿領域。
核心參數
主源/輔源類型:考夫曼離子源
樣品臺:3~8英寸,面內旋轉
靶臺:3~4靶
高真空系統:前級泵+分子泵
工藝氣路:1-3路
均勻性:≤±5%
全自動+半自動控制;支持單工藝和多工藝組、操作記錄、運行記錄、故障診斷、報警等功能。
可選配:0ES終點檢測/膜厚儀。
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